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IEC/TC111 WG3第10次会议在日本召开
时间:2010-04-16
来源:SAC/TC297/SC3秘书处

2010年4月14-16日,IEC/TC111 WG3工作组在日本京都召开了第10次工作组会议。来自中国、德国、美国、日本、韩国、英国、荷兰及以色列等8个国家的28位代表参加了会议。中国电子技术标准化研究所程涛、广东出入境检验检疫局技术中心郑建国、宁波出入境检验检疫局技术中心陈建国、纳优北京有限公司杨李锋和北京吉天仪器有限公司刘霁欣等5位专家代表中国出席会议

会议首先提出了此次会议的两个预期目标:第一,讨论7个新方法提案,并在2010年6月前完成IEC62321第2版的CD稿;第二,讨论IIS4,明确IIS4的分工和前期准备工作。

针对7个新方法提案的表决结果和修改意见,参会代表进行了热烈而充分地讨论,从中对一些技术细节进行了完善和改进,例如:在筛选章节中增加PCB的筛选操作示例;在六价铬章节中删除斑点法,增加金属镀层六价铬测定的方法评价等。通过此次会议,进一步扫清了IEC62321第2版中各方法的技术障碍,确保CD稿能够在今年6月之前提交IEC。

其次,会议广泛征集了各参会代表对于即将进行的IIS4的意见和建议,对IIS4的时间进度、实验室和样品选择等问题进行了认真而周密地安排和分工,各国家地区明确了工作方向,纷纷表示积极配合并参与此次IIS研究。其中,六价铬TG还决定,在正式的IIS4之前,将会在今年7月份之前,完成一项小范围的实验比对,该比对将由中国CESI实验室、韩国SAMSUNG实验室和SGS China实验室共同完成。